有消息称中国出台新规：芯片制造设备国产化率需不低于50%！

12月31日有消息称，据报道，中国已悄然推出一项新规定，要求芯片制造商在扩充产能时，所使用设备的国产占比不得低于50%。

目前，这一要求尚未被写入任何正式的法规条款，但据了解相关情况的人士表示，近几个月以来，那些申请政府审批以新建或者扩建晶圆厂的企业，都被要求提供相关证明，以证实其设备采购费用中，至少有百分之五十是支付给中国本土供应商的。

未达标的申请，通常会被驳回。

事实上，相关主管人士已向申请者明确说明，50%仅仅是最低标准线，并非最终要达成的目标。

因为长远来看，中国的目标是实现晶圆和芯片制造设备的全面国产化。

不过由于客观条件的限制，这一法规难免存在一些妥协之处，监管部门将采取一事一议的灵活处理办法。

像先进制程的晶圆厂或许能得到部分豁免政策，这主要是因为国产光刻机等设备目前仍有不小的技术差距。

总的来说，这项要求对成熟工艺芯片生产线的执行标准最为严格，而针对先进制程工艺生产线，则会给予不同程度的临时性豁免。

数据表明，本年度截至目前，具有国有背景的中国芯片生产企业已累计购置421台（套）国产光刻机及其相关零部件，采购总金额大约为8.5亿元。

根据ASML 2024财年第四季度的财报数据，用于成熟工艺芯片制造的干式氟化氩（ArF）光刻机，每台平均价格约为2790万美元；氟化氪（KrF）光刻机的单台均价约为1446万美元；而应用于先进工艺芯片生产的浸没式深紫外（DUV）ArF光刻机，其单台平均价格则高达8250万美元。

中国国产光刻机目前仍以干式ArF、KrF机型为主。

2024年一整年，ASML共交付了52台KrF步进扫描光刻机、65台i线步进光刻机、28台干式ArF光刻机、129台浸没式ArF光刻机以及44台EUV光刻机。